光刻膠公司-光刻膠-北京賽米萊德(查看)
光刻膠的參數(shù)介紹
1.對比度(co*ast)
對比度指光刻膠從*區(qū)到非*區(qū)過渡的陡度。 對比度越好,越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。
2.粘滯性/黏度 (viscosity)
衡量光刻膠流動特性的參數(shù)。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。
3.*蝕性(anti-etching)
光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、*刻蝕能力和*離子轟擊能力。
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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?
注意事項:
①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;
②看光刻機型式,若是投影方式,用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題
③負性膠價格成本低,光刻膠公司,正性膠較貴;
④工藝方面:負性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;
⑤健康方面:負性膠為有機溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,光刻膠供應(yīng)商,對健康、環(huán)境無害。
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光刻膠相關(guān)信息
賽米萊德——光刻膠供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?br>光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍非常廣,上游為基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細*行業(yè),中游為光刻膠制備,光刻膠廠家,下游為電子加工廠商、各電子器產(chǎn)品應(yīng)用終端。由于上游產(chǎn)品直接影響下游企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量,下業(yè)企業(yè)對公司產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視,常采用認證采購的模式,進入壁壘較高。
在下游半導(dǎo)體、lcd、pcb等行業(yè)需求持續(xù)擴大的拉動下,光刻膠,光刻膠市場將持續(xù)擴大。2018年光刻膠市場規(guī)模為85億美元,2014-2018年復(fù)合增速約5%。據(jù)ihs,未來光刻膠復(fù)合增速有望維持5%。按照下游應(yīng)用來看,目前半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,lcd 光刻膠占比26.6%,pcb 光刻膠占比24.5%,其他類光刻膠占比24.8%。
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