污水惡臭處理器-賴氏環(huán)保(在線咨詢)-韶關(guān)惡臭處理器

除臭設(shè)備具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低、凈化和適用范圍廣的特點(diǎn)，廢氣由風(fēng)管引入凈化塔，飼料廠惡臭處理器，經(jīng)過填料層，廢氣與進(jìn)液兩相充分接觸吸收中和反應(yīng)，廢氣經(jīng)過凈化后，再經(jīng)除霧板脫水除霧后由風(fēng)機(jī)排入大氣。吸收液在塔底經(jīng)水泵增壓后在塔頂噴淋而下，后回流至塔底循環(huán)使用。除臭設(shè)備由圓形塔體，用法蘭分段聯(lián)接而成。具體結(jié)構(gòu)由進(jìn)風(fēng)段、壓力室、鼓泡貯液箱、兩級(jí)噴淋段、旋流板、出風(fēng)錐帽等組成。
光催化氧化法采用催化劑可以加速液相氧化分解惡臭物的速率。
利用二氧化釹作為催化劑的光催化氧化法對(duì)惡臭有較好的去除作用。在近20年的研究 過程中發(fā)現(xiàn)光催化技術(shù)直接用空氣中的02作氧化劑，韶關(guān)惡臭處理器，反應(yīng)條件溫和（常溫、常壓），污水惡臭處理器，對(duì)幾 乎所有污染物均具有凈化能力。常見的光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如tic)2、zno、 zns、cds及pbs等。
利用低溫等離子凈化設(shè)備中的介質(zhì)阻擋放電過程中，惡臭凈化處理器，等離子體內(nèi)部產(chǎn)生富含較高化學(xué)活性的粒子，如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)，轉(zhuǎn)化為co2和h2o等物質(zhì)，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。低溫等離子的放電效果和空氣的濕度有*大的關(guān)系，濕度越大能耗越大，大量能量會(huì)被水分子吸收，從而降低電離效果。使用低溫等離子處理廢氣，廢氣直接經(jīng)過放電系統(tǒng)，對(duì)于氣體帶來很大安全隱患，容易造成火災(zāi)等重大安全事故。
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